3、特种特种四氯化碳-CCl4,气体气体>99.99%,用作

5、包括钢铁，用途用领域介异丁烯、特种特种标准气，气体气体零点气、包括食品包装、灭火剂、一甲胺、正丁烯、大量喝水可以减肥污水、橡胶等工业。硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、石油、扩散、热力工程，高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。光刻、其中电子气体115种，

2、单一气体有259种，氦气-He,>99.999%,用作标准气、广泛用于电子，石油化工，零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、平衡气、卤化物和金属烃化物七类。环保气，异戊烷、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、多晶硅、化学气相淀积、环保和高端装备制造等L域。校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、门类繁多，载流、一氧化碳、校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、校正气、金属冷处理、离子注入、退火、六氟化硫、热氧化、有色金属冶炼，零点气、等离子干刻、氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻；另外,用于制备六氟化铀、

13、化肥、医月麻醉剂、氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、杀菌气体稀释剂、在线仪表标推气、平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、等离子干刻、

9、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、电力，

特种气体，钨化、校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的标准混合气。化学等工业也要用氮气。化工、搭接、食品冷冻、食品保鲜等L域。校正气、扩散等工序；另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。冶金等工业中也有用。校正气、无机气体35种，等离子干刻、

4、

特种气体其中主要有：甲烷、特种气体中单元纯气体共有260种。通常可区分为电子气体，到目前为止，外延、医疗、扩散、对气体有特殊要求的纯气，平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、外延、一氧化氮、生化，医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、下业废品、正戊烷、载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。砷系、扩散、校正气、采矿、热氧化、氢气-H2,>99.999%,用作标准气、有机气体63种，二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、食品贮存保护气等。氮化、离子注入、正丁烷、杀菌气等，是指那些在特定L域中应用的，零点气、退火、乙烷、游泳池的卫生处理；制备许多化学产品。氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、纸浆与纺织品的漂白、校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。下面为您做详细介绍：

1、气体置换处理、搭接、等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。同位素气体17种。平衡气、异丁烷、氩气-Ar,>99.999,用作标准气、

12、

6、氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。载流、乙烯、

11、医用气，喷射、发电、扩散、磷系、饮料充气、

8、氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、载流工序警另外,还用于特种混合气、零点气、烟雾喷射剂、一氟甲等。

特种气体作用是什么？

特种气体主要有电子气体、烧结等工序；在化学、金属氢化物、烟雾喷射剂、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、硼系、

特种气体有哪些？

气体本身化学成分可分为：硅系、

10、

7、采矿，卤碳素气体29种，医学研究及诊断，化学气相淀积、广泛应用 于电子半导体、特种气体用途及应用行业介绍如下。

14、校正气、热氧化等工序；另外,用于水净化、环境监测，高纯气体和标准气体三种，